霸占7nm指日可下！国产第500台步进光刻机成功交给
快科技8月9日音讯，毫无疑问，我国正在发力光刻机，而先进制程的7nm工艺迟早会被霸占，现在全工业链都在团体发力。
据上海芯上微装科技股份有限公司（简称“芯上微装”或“AMIES”）发布了重要的公告，公司昨日举办了第500台步进光刻机交给典礼，这标志着我国高端半导体配备工业迈上新的台阶。
芯上微装称，先进封装光刻机是AMIES的拳头产品，具有高分辨率、高套刻精度、超大曝光视场等显著特点，具有强壮的翘曲和厚胶处理才能，可依照每个客户的详细工艺需求灵敏配备设备。
该类产品可以很好的满意Flip-chip、Fan-in、Fan-out WLP/PLP、2.5D/3D等先进封装技能的要求，获得了商场的高度认可，现在全球市占率到达35%，国内市占率到达90%。
此次发运的第500台步进光刻机将交给给盛合晶微半导体（江阴）有限公司。盛合晶微与AMIES具有杰出的协作根底，盛合晶微表明乐意进一步深化与AMIES的战略协作，一起推进先进封装技能创新和工业开展。
依据材料显现，芯上微装成立于2025年02月08日，是一家专心于高端半导体配备研制、出产和服务的创新式科技公司。公司致力于为IC前道芯片制作、晶圆级/板级先进封装、化合物半导体和新式显现等应用领域供给高精度、高功能、高可靠性的设备及处理方案。
究竟什么是步进式光刻机（由工件台、掩模台以及调焦调平体系三大部分所组成）？它其实集成电路制作的高精度投影曝光设备（不可或缺的中心配备），经过步进光刻技能完成高分辨率图画搬运的半导体制作设备，中心功用是将掩模图画逐场投影到晶圆外表。
步进式光刻机的光学体系，作为其技能的要害，涵盖了照明体系、投影物镜以及掩模版等多个中心组件。光学体系包含照明、投影物镜和掩模版，支撑光刻机的高分辨率和功能。
